氨氣（NH3）是半導體制造中的一種重要工藝化學品。它常用于沉積硅氮化物，也用于氮化處理或沉積其他氮化物。它用于化學氣相沉積（CVD）和等離子體蝕刻過程。

氨氣帶來了特定的困難，因為液態(tài)氨中含有固體和揮發(fā)性雜質，其中許多雜質如果在制造過程中存在，會對電子組件造成損害。雜質的水平可能根據(jù)來源以及處理方法有很大的差異，所有這些雜質必須在氨氣用于電子組件生產線之前被去除。

為了達到這個標準，生產設施不得不以相當?shù)某杀緩挠邢薜哪軌蛱峁┛山邮艿燃壍陌钡膩碓刺帿@得高質量的氨。只能使用合格的供應商，新的供應商在他們的產品被接受之前必須經過資格認證。

交通部的規(guī)定提出了進一步的限制，即水合氨必須以不超過30%的氨濃度運輸。

由于這些原因，在半導體設施中對氨氣中的雜質進行ppb分析至關重要。氣相色譜法是一種分析技術，可以準確測量氨氣樣品中的ppb痕量雜質。該技術確保了對背景氣體無干擾，并對要測量的雜質具有良好的靈敏度。

氨的純度可以通過配置有PED的MultiDetek3氣相色譜儀進行定性定量分析。

該裝置配置了0-5ppm的測量范圍和3-5ppb的檢測限（ldl）用于檢測樣品氣體超高純氨（UHP氨氣，NH3）中的雜質H2、O2、N2、CO、CO2、CH4、CO2、C2H6、C3H8和C4H10。PED（等離子體發(fā)射檢測器）已安裝在氣相色譜儀（GC）中，使用氦氣作為載氣來測量UHP NH3中的ppb級雜質。所有之前列出的雜質都在一個分析器內進行測量。

由于氨氣被列為一種非常有毒的氣體，我們的氣相色譜儀配置提供了一個特定的樣品流路配置。

其他配置和量程/LDL也是可以的。參數(shù)主要取決于現(xiàn)場生產需求和流程。

一系列微量雜質H2-O2-N2-CO-CH4-CO2-C2H6-C3H8-C4H10在超高純氨氣中的色譜圖（量程校準）

A series of chromatograms (Span calibration) of trace impurities H2-O2-N2-CO-CH4-CO2-C2H6-C3H8-C4H10 in bal-ance gas UHP Ammonia (NH3)

檢出限（基于空白樣本噪聲水平的三倍）

Limit of detection (based on 3 times the noise level from a blank)

重復性：基于氣相色譜（GC）標準。使用10次連續(xù)運行中的6次，其值低于3倍CV%的5%。?

線性：基于氣相色譜（GC）標準。線性曲線的R2值在0.998到1.00之間。?

準確性：基于氣相色譜（GC）標準。誤差小于或等于1%或ldl（低檢測限），取二者中較高者。?

配備了PED模塊的MultiDetek3為半導體氨氣的質量驗證和生產提供了良好的微量ppb/ppm雜質分析解決方案。該氣相色譜儀配置了標準的工業(yè)通信協(xié)議和遠程控制界面。由于其高靈敏度的等離子體發(fā)射檢測器，使用MultiDetek3氣相色譜儀測量微量雜質可達到亞ppb級別，非常適合半導體氨氣。MultiDetek3是一種非常堅固的氣體分析儀，專為工業(yè)市場設計，可實現(xiàn)24/7連續(xù)運行。結合其他LDetek附件模塊，它滿足了工業(yè)應用的完整需求。